إنتل تتخلص من استخدام الرصاص في معالجاتها المستقبلية

في إطار جهودها للمحافظة على البيئة، أعلنت شركة إنتل اليوم أن معالجاتها المستقبلية، ابتداء من عائلة المعالجات المصنوعة بتقنية 45 نانومتر والتي تستخدم البوابة المعدنية ذات عامل العزل الكهربائي العالي (Hi-k)، ستصبح خالية تماماً من الرصاص. وتشمل هذه العائلة الجيل المقبل من المعالجات Intel® Core™ 2 Duo و Intel® Core 2 Quadو Intel® Xeon®، وستبدأ الشركة إنتاج المعالجات المصنوعة بتقنية 45 نانومتر وعامل العزل الكهربائي العالي في النصف الثاني من هذه السنة.

وقال سمير الشماع، مدير عام إنتل في منطقة الخليج العربي: “تبذل إنتل جهوداً كبيرة في سبيل الحفاظ على البيئة، ابتداء من التخلص من الرصاص والتركيز على تحقيق كفاءة أعلى في استهلاك الطاقة في منتجاتنا، وحتى خفض مستويات الهواء الملوث المنبعث والعمل على تدوير كميات أكبر من الماء والمواد”.

ويستخدم الرصاص في مجموعة متنوعة من “أغلفة” الإلكترونيات المصغرة و”كرات اللحام” التي تربط بين رقاقات إنتل وأغلفتها. يلتف التغليف حول الرقاقة ويصلها باللوحة الأم، وتستخدم أنواع مختلفة من الأغلفة للمعالجات الموجهة لقطاعات معينة من السوق، ومنها معالجات الأجهزة المحمولة والمكتبية والخوادم. وتشمل تصاميم الأغلفة “مصفوفة الدبابيس” و”مصفوفة الكرات” و”المصفوفة الأرضية”، وتخلو جميعها تماماً من الرصاص في الجيل الجديد من معالجات إنتل الذي يستخدم تقنية 45 نانومتر وعامل العزل الكهربائي العالي. كما ستقوم الشركة في العام 2008 أيضاً بتحويل منتجاتها من الرقاقات عيار 65 نانومتر لتصبح خالية من الرصاص بنسبة 100% أيضاً.

ولا يقتصر تميز معالجات إنتل المصنوعة بتقنية 45 نانومتر على خلوها من الرصاص، بل إنها تستفيد أيضاً من تقنية السيليكون ذي العزل الكهربائي العالي (Hi-k) لتخفيض التسرب من الترانزستور والحصول على معالجات تمتاز بالكفاءة في استهلاك الطاقة والأداء المرتفع. كما تشمل تقنية السيليكون ذي عامل العزل الكهربائي العالي الجيل الثالث من السيليكون المجهَد، الذي يمكنه نقل التيار بشكل أفضل ويقلل “سعة” الروابط باستخدام مواد عازلة ذات عامل عزل مرتفع لرفع مستوى الأداء وخفض استهلاك الطاقة. وفي النهاية، ستتيح عائلة المعالجات المصنعة بتقنية 45 نانومتر وباستخدام مواد ذات عامل عزل كهربائي مرتفع الحصول على حاسبات مكتبية ومحمولة وأجهزة نقالة لتصفح الإنترنت وخوادم تمتاز جميعها بالرشاقة والحجم الصغير والكفاءة الأعلى في استهلاك الطاقة.

الطريق نحو التخلص من الرصاص
جرى استخدم الرصاص في الإلكترونيات على مدى العقود الماضية لما يتمتع به من خواص كهربائية وميكانيكية مميزة، ما يجعل البحث عن مواد بديلة قادرة على تحقيق الأداء والاعتمادية المطلوبين تحدياً علمياً وتقنياً كبيرين.

وبسبب التأثير المحتمل للرصاص على البيئة والصحة العامة، عملت إنتل لسنوات مع مورديها ومع الشركات الأخرى العاملة في صناعة أشباه الموصلات والإلكترونيات لتطوير حلول خالية من الرصاص ضمن التزامها البعيد بالممارسات البيئية السليمة. وفي العام 2002، قدمت إنتل أول منتجاتها الخالية من الرصاص من ذاكرات فلاش، وفي العام 2004 بدأت الشركة بشحن منتجات تحتوي على رصاص أقل بنسبة 95% مقارنة بأغلفة المعالجات وأطقم الرقاقات السابقة.

ولاستبدال الخمسة بالمئة (وتقدر بحوالي 0.02 غرام) التي ظلت متبقية على مر الزمان من لحام الرصاص في روابط المستوى الأول في أغلفة المعالجات (وصلات اللحام التي تربط قالب السيليكون بمادة التغليف)، ستستخدم إنتل خليطاً من القصدير والفضة والنحاس، يعتبر “الخلطة السرية” للحلول الجديدة التي تقدمها الشركة، بدلاً من لحام القصدير والرصاص. وبسبب البنية المعقدة للروابط في تقنيات السيليكون المتقدمة لدى إنتل، فقد تطلب العمل بذل جهود هندسية شاقة لإزالة الرصاص المتبقي في أغلفة معالجات إنتل واستخدام نظام خليط اللحام الجديد في الأغلفة.

وقد طوَّر مهندسو إنتل عمليات التصنيع وتجميع الرقاقات التي تحتوي على خلائط اللحام الجديدة، وتمكنوا من إنجاز ذلك مع الحفاظ على مستويات الأداء المرتفعة والجودة والموثوقية التي يتوقعها الزبائن من مكوِّنات إنتل.

الحفاظ على البيئة – من الترانزستورات إلى المصانع

لإنتل تاريخ طويل من الالتزام بالحفاظ على البيئة، وهو مفهوم بدأ مع مؤسسها غوردون مور. وبالإضافة إلى التخلص من استخدامات الرصاص في منتجاتها، طوَّرت إنتل عدداً من أفضل الممارسات البيئية في مصانعها وعملياتها. وتقوم الشركة بتصميم وبناء مزايا الكفاءة في استهلاك الطاقة في جميع ما تقوم به، ابتداء من أصغر ترانزستوراتها عيار 45 نانومتر في المعالجات المقبلة الخالية من الرصاص، والمعالجات الحالية إنتل كور 2 ديوو التي تستهلك طاقة أقل بما يصل إلى 40%، وحتى الدعم الواسع للمعايير الصناعية والسياسات العامة في هذا المجال. ومن الأمثلة على ذلك:

• انتقلت إنتل في وقت سابق من هذه السنة بأغلفة ذاكراتها Intel® StrataFlash® Cellular Memory إلى تقنية خالية من الهالوجين. وتعمل الشركة حالياً على تقييم استخدام مثبطات الاشتعال الخالية من الهالوجين في تقنيات أغلفة منتجاتها من وحدات المعالجة المركزية.

• في العام 1996، قادت إنتل اتفاقية شاملة على مستوى الصناعة لتخفيض الغازات المنبعثة المسببة لارتفاع حرارة الأرض في صناعة أشباه الموصلات. وهي تعمل اليوم مع الاتحاد الأوروبي لمناقشة كيفية تمكين قطاع التقنية من المساعدة في تحقيق أهداف الاتحاد الأوروبي بتخفيض نسبة الغازات المنبعثة بنسبة 20% بحلول العام 2020.

• تركز إنتل على تخفيض استهلاك الموارد الطبيعية وتقليص النفايات،
المستخدمة في عملياتها التصنيعية أو الناتجة عنها. وخلال السنوات الثلاثة الماضية، تمكنت الشركة من توفير أكثر من 9 مليارات غالون من الماء العذب من خلال تدابير الاقتصاد في الاستهلاك، وخفضت نسبة الغازات المنبعثة والمسببة لارتفاع درجة حرارة الأرض بما يعادل تخفيض عدد السيارات التي تتحرك على الطرقات بخمسين ألف سيارة.

• قللت إنتل من كمية المواد الخطرة في منتجاتها، وقامت بتدوير أكثر من 70% من مخلفاتها الكيميائية والصلبة.

• تضع إنتل المصادر المتجددة للطاقة في مقدمة أولوياتها. وتعتبر الشركة أكبر مشتر إفرادي للطاقة المولدة عن طريق الرياح في أوريغون وأكبر مستهلك صناعي للطاقة القابلة للتجديد في نيومكسيكو.

• من خلال تحول إنتل المستمر من الشرائح قياس 200 مم إلى 300 مم، تمكنت الشركة من تخفيض استهلاك المياه في عملياتها التصنيعية بنحو 40% تقريباً لكل سنتيمتر مربع تم إنتاجه من السيليكون.

• حازت إنتل على تقدير الوكالة الأمريكية لحماية البيئة لعملها في برامج إنرجي ستار Energy Star* وتقليص تنقلات الموظفين من وإلى العمل.